溅射靶材

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      靶材要求：

      纯度     陶瓷靶材的纯度对溅射薄膜的性能影响很大，陶瓷靶材的纯度越高，溅射薄膜的均匀性和批量产品质量的一致性越好。近年来随着微电子产业的迅速发展，硅器件布线宽度已发展到0．13μm，对成膜面积的薄膜均匀性要十分严格，其纯度必须大于4N。此外显示平面用的ITO靶材对纯度也要求十分严格，要求ITO的纯度都大于4N。磁性薄膜用陶瓷靶材的纯度也要不低于3N。靶材作为溅射中的阴极源，固体中的杂质是沉积薄膜的主要污染源，如：碱金属离子(Na+、K+)易在绝缘层(SiO)中成为可移动性离子，降低元器件性能，其含量须在0．01ppm(重量)以下。

石久高研专注15年提供高纯金属靶材  高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~

溅射靶材

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      靶材的成分与结构均匀性

      为了保证溅射薄膜均匀，尤其在复杂的大面积镀膜应用方面，必须做到靶材成分与结构均匀性好，这也是考察陶瓷靶材质量的重要指标之一。例如，为了保证质量，要求ITO靶中In2O3， SnO2组成均匀，都为93：7或91：9(分子比)。特别是溅射靶材的微观结构均匀性对溅射时的成膜速率、沉积薄膜的质量及厚度分布等均有很大的影响。根据有关研究表明，细晶粒（<100μm）结构溅射靶材的成膜速率大于粗晶粒靶。因此，当陶瓷靶材在靶面尺寸上的晶粒分布不均匀时，将造成沉积薄膜厚度分布的不均匀现象。

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溅射靶材使用

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      为保持镀膜的成分特性，溅射气体(氩气或氧气)必须清洁并干燥，溅镀腔内装入基材后便需将空气抽出，达到工艺所要求的真空度。  暗区屏蔽罩，腔体壁及邻近表面也需要保持洁净。纱纸抛光后, 再用酒精，去离子水清洗，同时建议使用工业吸尘器进行溅射靶材清洁。

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